半導體指的是在常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的一種材料，主要應用于集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電、照明、大功率電源轉換等領域，在半導體工業加工的過程中將會有部分的氣體排出，那半導體工業的廢氣有毒嗎，怎么處理好?
       半導體工業在加工的過程中會使用到光刻膠、蝕刻液、清洗劑、顯影劑等溶劑，而這些溶劑是含有大量的有機物成分，排放出來的廢氣含有HCl、氨、HF等危險污染物，而主要處理的是具有揮發性的VOCs。VOCs污染物為有機化合物，在濃度較高且有火花或靜電情況下，極易發生閃爆現象。半導體在制造過程中一般的污染源包括顆粒污染物、金屬離子和化學物質等，而這些都是屬于有害的污染物。
半導體廢氣處理方法根據工業廢氣成分進行廢氣處理設備的選擇：
噴淋塔：
噴淋塔可分為酸液噴淋塔、堿液噴淋塔、循環水噴淋塔，因在進行廢氣處理的過程中會涉及到酸堿等不同的污染物質，設備會根據廢氣的性質、采用的處理工藝將設備的材料劃分為東莞玻璃鋼噴淋塔、東莞pp噴淋塔、東莞不銹鋼噴淋塔。
      噴淋塔對各種腐蝕性氣體凈化處理效果明顯，能有效去除氯化氫氣體(HCl)、氟化氫氣體(HF)、氨氣(NH3)、硫酸霧(H2SO4)、鉻酸霧(CrO3)、氰氫酸氣體(HCN)、堿蒸氣(NaOH)、福爾馬林(HCHO)等水溶性氣體。東莞噴淋塔廢氣凈化效率高、操作管理簡單、使用壽命長，凈化處理后的酸堿廢氣排放達到國家排放標準。

催化燃燒裝置：
      RCO催化燃燒設備的運作原理是將有機廢氣通過過濾器過濾后，進入設備的活性炭吸附模塊，對廢氣進行吸附、濃縮，再借助催化劑燃燒的方式對吸附、濃縮后的廢氣進行凈化處理，燃燒的過程為無焰燃燒，燃燒后的廢氣會轉化為二氧化碳和水。
       在催化氧化爐內被加熱到250～300℃的有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下發生無焰燃燒，有機廢氣被氧化分解成二氧化碳和水，達到廢氣處理的目的，廢氣處理后的潔凈氣體經煙囪達標排放。燃燒后的熱空氣通過換熱器進行降溫，降溫后的氣體部分排放，部分用于活性炭脫附再生以達到廢熱利用和節能的目的。
       半導體工業廢氣是具有毒性的，不同的工業采用的工藝原材料不同，因此采用的廢氣處理設備以及工藝都是不一樣的，具體的處理方案可咨詢我們。
來源：環保